壹.概(gai)述
激光打(da)標(biao)是在(zai)激(ji)光焊接(jie)、激(ji)光熱(re)處(chu)理、激(ji)光切割(ge)、激(ji)光打(da)孔(kong)等應(ying)用技(ji)術之(zhi)後(hou)發展(zhan)起(qi)來(lai)的(de)壹(yi)門(men)新(xin)型(xing)加(jia)工技(ji)術,是(shi)壹種(zhong)非(fei)接(jie)觸(chu)、無(wu)汙(wu)染、無(wu)磨(mo)損(sun)的(de)新(xin)標(biao)記(ji)工藝(yi)。近年(nian)來(lai),隨著(zhe)激(ji)光器(qi)的(de)可靠(kao)性和實(shi)用性的(de)提(ti)高,加(jia)上計(ji)算機技(ji)術的(de)迅速(su)發(fa)展(zhan)和光學(xue)器(qi)件(jian)的(de)改(gai)進,促(cu)進了激(ji)光打(da)標(biao)技(ji)術的(de)發(fa)展(zhan)。
激光打(da)標(biao)機是(shi)利用高能(neng)量(liang)密度的(de)激(ji)光束(shu)對(dui)目(mu)標(biao)作用,使目(mu)標(biao)表面(mian)發生物(wu)理或(huo)化學(xue)的(de)變(bian)化,從(cong)而(er)獲(huo)得可見(jian)圖(tu)案(an)的(de)標(biao)記(ji)方(fang)式。高能(neng)量(liang)的(de)激(ji)光束(shu)聚(ju)焦(jiao)在(zai)材(cai)料(liao)表面(mian)上,使材(cai)料(liao)迅速(su)汽化,形(xing)成凹(ao)坑(keng)。隨著(zhe)激(ji)光束(shu)在(zai)材(cai)料(liao)表面(mian)有規(gui)律(lv)地移(yi)動(dong)同時(shi)控(kong)制(zhi)激(ji)光的(de)開(kai)斷,激(ji)光束(shu)也就(jiu)在(zai)材(cai)料(liao)表面(mian)加(jia)工成了壹(yi)個指(zhi)定的(de)圖(tu)案(an)。激(ji)光打(da)標(biao)與(yu)傳統(tong)的(de)標(biao)記(ji)工藝(yi)相(xiang)比有明(ming)顯的(de)優點:
(1) 標(biao)記(ji)速度(du)快(kuai),字跡(ji)清(qing)晰(xi)、永久。
(2) 非(fei)接(jie)觸(chu)式(shi)加(jia)工,汙(wu)染小,無(wu)磨(mo)損(sun)。
(3) 操作方(fang)便,防偽(wei)功能(neng)強。
(4) 可以(yi)做(zuo)到(dao)高速自(zi)動(dong)化運行(xing),生產(chan)成本低
二.國(guo)內激(ji)光打(da)標(biao)機的(de)發(fa)展(zhan)歷(li)程(cheng)
激光打(da)標(biao)機的(de)核心是(shi)激光打(da)標(biao)控制(zhi)系統(tong),因(yin)此(ci),激光打(da)標(biao)機的(de)發(fa)展(zhan)歷(li)程(cheng)就是(shi)打(da)標(biao)控制(zhi)系統(tong)的(de)發(fa)展(zhan)過(guo)程(cheng)。從1995年(nian)到(dao)2003年(nian)短短的(de)8年(nian)時(shi)間(jian),控(kong)制(zhi)系統(tong)在(zai)激光打(da)標(biao)機領(ling)域(yu)就經歷了大幅面時(shi)代、轉(zhuan)鏡(jing)時(shi)代(dai)和振(zhen)鏡時代(dai),控制(zhi)方(fang)式也完成了從(cong)軟(ruan)件(jian)直(zhi)接(jie)控(kong)制(zhi)到(dao)上下位機(ji)控(kong)制(zhi)到(dao)實(shi)時(shi)處(chu)理、分時復(fu)用的(de)壹(yi)系列(lie)演變(bian),如今(jin),半導體(ti)激光器(qi)、光纖激光器(qi)、乃(nai)至(zhi)紫(zi)外(wai)激(ji)光的(de)出(chu)現和發(fa)展(zhan)又(you)對(dui)光學(xue)過(guo)程(cheng)控制(zhi)提(ti)出(chu)了新(xin)的(de)挑戰(zhan)。
1.大幅面時(shi)代
所謂(wei)大幅面,剛開(kai)始是(shi)將(jiang)繪(hui)圖(tu)儀的(de)控(kong)制(zhi)部分直接(jie)用於激(ji)光設(she)備(bei)上(shang),將繪(hui)圖(tu)筆(bi)取下,在(zai)(0,0)點X軸基(ji)點、Y軸基(ji)點和原(yuan)繪(hui)圖(tu)筆(bi)的(de)位(wei)置上分別安(an)裝(zhuang)45°折(zhe)返鏡,在(zai)原(yuan)繪(hui)圖(tu)筆(bi)位置(zhi)下(xia)端(duan)安裝小型聚(ju)焦(jiao)鏡(jing),用以導通(tong)光路(lu)及使(shi)光束(shu)聚(ju)焦(jiao)。直(zhi)接用繪(hui)圖(tu)軟(ruan)件(jian)輸(shu)出(chu)打(da)印(yin)命(ming)令即可驅(qu)動(dong)光路(lu)的(de)運行(xing),這(zhe)種(zhong)方(fang)式最(zui)明顯(xian)的(de)優勢(shi)是幅面大,而(er)且基(ji)本上(shang)能(neng)滿(man)足精(jing)度(du)比較(jiao)低的(de)標(biao)刻要求(qiu),不需(xu)要專(zhuan)用的(de)標(biao)刻軟(ruan)件(jian);但是,這(zhe)種(zhong)方(fang)式存(cun)在著(zhe)打(da)標(biao)速度(du)慢、控(kong)制(zhi)精(jing)度低、筆(bi)臂(bi)機械(xie)磨(mo)損(sun)大、可靠(kao)性差、體(ti)積大等缺(que)點。因此(ci),在經歷最(zui)初的(de)嘗(chang)試後(hou),繪(hui)圖(tu)儀式的(de)大幅面激(ji)光打(da)標(biao)系統(tong)逐步(bu)退出(chu)打(da)標(biao)市場(chang)的(de),現在所應(ying)用的(de)同類型(xing)的(de)大幅面設(she)備基(ji)本上(shang)都是(shi)模仿以前這種(zhong)控制(zhi)過(guo)程(cheng),用伺服(fu)電(dian)機驅(qu)動(dong)的(de)高(gao)速大幅面系統(tong),而(er)隨著(zhe)三(san)維(wei)動(dong)態(tai)聚焦(jiao)振(zhen)鏡式掃(sao)描(miao)系統(tong)的(de)逐步(bu)完善(shan),大幅面系統(tong)將(jiang)逐步(bu)從激光標(biao)刻領(ling)域(yu)銷(xiao)聲(sheng)匿(ni)跡(ji)。
2.轉鏡(jing)時代(dai)
由於看(kan)到大幅面系統(tong)的(de)壹(yi)系列(lie)缺(que)點,在高(gao)速(su)振(zhen)鏡技(ji)術還(hai)沒(mei)有在(zai)中國(guo)廣泛(fan)普及的(de)情(qing)況下(xia),壹些控制(zhi)工(gong)程(cheng)師(shi)自(zi)行(xing)開(kai)發了由步進電(dian)機驅(qu)動(dong)的(de)轉(zhuan)鏡式掃(sao)描(miao)系統(tong),其(qi)工作原(yuan)理是(shi)將(jiang)從(cong)諧振(zhen)腔(qiang)中導出(chu)的(de)激(ji)光通(tong)過擴束,經過成90°安(an)裝(zhuang)的(de)兩個步(bu)進電(dian)機驅(qu)動(dong)的(de)金(jin)鏡的(de)反(fan)射,由F-theta場鏡(jing)聚焦(jiao)後(hou)輸出(chu)作用於處(chu)理對(dui)象上,金(jin)鏡(jing)的(de)轉(zhuan)動(dong)使工(gong)作平面上的(de)激(ji)光作用點分別在(zai)X、Y軸(zhou)上移(yi)動(dong),兩個鏡(jing)面(mian)協(xie)同動(dong)作使激光可以(yi)在(zai)工(gong)作平面上完成直(zhi)線(xian)和各(ge)種(zhong)曲線(xian)的(de)移(yi)動(dong)。這種(zhong)控制(zhi)過(guo)程(cheng)無(wu)論(lun)從速(su)度(du)還(hai)是(shi)定位(wei)精(jing)度(du)來(lai)說都(dou)遠超(chao)過(guo)大幅面,因(yin)此(ci)在很(hen)大程(cheng)度上(shang)能(neng)滿(man)足工(gong)具(ju)行(xing)業(ye)對(dui)激(ji)光控(kong)制(zhi)的(de)要求(qiu),雖(sui)然(ran)同當時(shi)國(guo)際上(shang)流(liu)行(xing)的(de)振(zhen)鏡式掃(sao)描(miao)系統(tong)還(hai)有比(bi)較明顯(xian)的(de)差距,但嚴格(ge)來(lai)說這(zhe)種(zhong)設計(ji)思路(lu)的(de)出(chu)現和逐步(bu)完善(shan)代表著(zhe)中國(guo)激光應(ying)用的(de)壹(yi)個裏(li)程(cheng)碑(bei),是(shi)中國(guo)完全(quan)能(neng)自(zi)行(xing)設(she)計(ji)和生產(chan)激(ji)光應(ying)用設備的(de)典(dian)型標(biao)誌(zhi)。直(zhi)到振鏡(jing)在(zai)中國(guo)大規(gui)模應(ying)用的(de)興起(qi),這(zhe)種(zhong)控制(zhi)方(fang)式才逐步(bu)退出(chu)中國(guo)激光應(ying)用的(de)舞(wu)臺。
3.振鏡(jing)時代(dai)
1998年(nian),振(zhen)鏡(jing)式(shi)掃(sao)描(miao)系統(tong)在(zai)中國(guo)的(de)大規(gui)模應(ying)用開(kai)始到(dao)來(lai)。
[所謂(wei)振鏡,又(you)可以(yi)稱(cheng)之(zhi)為(wei)電流(liu)表計(ji),它(ta)的(de)設(she)計(ji)思路(lu)完全(quan)沿(yan)襲電(dian)流(liu)表的(de)設(she)計(ji)方(fang)法,鏡片(pian)取代了表針(zhen),而探(tan)頭的(de)信號(hao)由計(ji)算機控制(zhi)的(de)-5V—5V的(de)直(zhi)流(liu)信號(hao)取代,以(yi)完成預(yu)定的(de)動(dong)作。同轉(zhuan)鏡(jing)式掃(sao)描(miao)系統(tong)相(xiang)同,這(zhe)種(zhong)典(dian)型的(de)控(kong)制(zhi)系統(tong)采(cai)用了壹(yi)對(dui)折(zhe)返鏡,不(bu)同的(de)是(shi),驅(qu)動(dong)這套(tao)鏡片(pian)的(de)步(bu)進電(dian)機被(bei)伺(si)服(fu)電(dian)機所取代,在(zai)這套(tao)控制(zhi)系統(tong)中,位置傳感(gan)器(qi)的(de)使(shi)用和負(fu)反饋(kui)回路(lu)的(de)設(she)計(ji)思路(lu)進壹(yi)步保(bao)證(zheng)了系統(tong)的(de)精(jing)度,整個系統(tong)的(de)掃(sao)描(miao)速(su)度和重(zhong)復定位(wei)精(jing)度(du)達(da)到(dao)壹個新(xin)的(de)水(shui)平。
三.國(guo)內激(ji)光打(da)標(biao)機的(de)技(ji)術現狀(zhuang)
目(mu)前(qian)國(guo)內的(de)激(ji)光打(da)標(biao)機按(an)其(qi)工作方(fang)式可分為(wei)掩(yan)模式打(da)標(biao)、陣(zhen)列(lie)式打(da)標(biao)和掃(sao)描(miao)式(shi)打(da)標(biao)。
1.掩(yan)模式打(da)標(biao)
掩(yan)模式打(da)標(biao)又叫(jiao)投影式打(da)標(biao)。掩(yan)模式打(da)標(biao)系統(tong)由激光器(qi)、掩(yan)模板和成像透鏡(jing)組(zu)成,其(qi)工作原(yuan)理,經過望(wang)遠鏡(jing)擴束的(de)激(ji)光,均(jun)勻(yun)的(de)投射在事先做(zuo)好(hao)的(de)掩(yan)模板上,光從(cong)雕(diao)空部分透射(she)。掩(yan)模板上的(de)圖(tu)形(xing)通(tong)過透鏡(jing)成像到工(gong)件(jian)(焦(jiao)面(mian))上。通(tong)常每個脈(mai)沖即(ji)可形(xing)成壹(yi)個標(biao)記(ji)。受激(ji)光輻射的(de)材(cai)料(liao)表面(mian)被迅速(su)加(jia)熱(re)汽化或(huo)產生化學(xue)反(fan)應(ying),發生顏(yan)色變化形(xing)成可分辨的(de)清(qing)晰(xi)標(biao)記(ji)。掩(yan)模式打(da)標(biao)壹般(ban)采(cai)用CO2激光器(qi)和YAG激(ji)光器(qi)。掩(yan)模式打(da)標(biao)主(zhu)要優點是壹(yi)個激(ji)光脈(mai)沖壹(yi)次(ci)就能(neng)打(da)出(chu)壹(yi)個完整的(de)、包(bao)括(kuo)幾(ji)種(zhong)符(fu)號(hao)的(de)標(biao)記(ji),因此(ci)打(da)標(biao)速度(du)快(kuai)。對於大批量產(chan)品,可在(zai)生產(chan)線(xian)上(shang)直接(jie)打(da)標(biao)。缺(que)點是打(da)標(biao)靈活性差,能(neng)量(liang)利用率低。
它(ta)是使(shi)用幾(ji)臺小型激(ji)光器(qi)同時(shi)發(fa)射脈(mai)沖,經反射(she)鏡和聚(ju)焦(jiao)透鏡(jing)後(hou),使幾(ji)個激(ji)光脈(mai)沖在(zai)被打(da)標(biao)材(cai)料(liao)表面(mian)上燒(shao)蝕(熔(rong)化)出(chu)大小及深(shen)度(du)均(jun)勻(yun)的(de)小凹坑(keng),每個字符(fu)、圖(tu)案(an)都(dou)是(shi)由這些小圓黑(hei)凹坑(keng)構成的(de),壹(yi)般(ban)是(shi)橫(heng)筆(bi)劃(hua)5個點,豎筆(bi)劃(hua)7個點,從而(er)形(xing)成5×7的(de)陣(zhen)列(lie)。陣(zhen)列(lie)式打(da)標(biao)壹般(ban)采(cai)用小功率射頻激勵CO2激(ji)光器(qi),其(qi)打(da)標(biao)速度(du)最(zui)高可達(da)6000字符(fu)/妙,因而(er)成為(wei)高速(su)在線(xian)打(da)標(biao)的(de)理想(xiang)選(xuan)擇,其(qi)缺(que)點是只(zhi)能(neng)標(biao)記(ji)點陣(zhen)字符(fu),且只(zhi)能(neng)達(da)到(dao)5×7的(de)分辨率,對於漢字無(wu)能(neng)為(wei)力。
2.掃(sao)描(miao)式(shi)打(da)標(biao)
掃(sao)描(miao)式(shi)打(da)標(biao)系統(tong)由計(ji)算機、激光器(qi)和X-Y掃(sao)描(miao)機(ji)構三部分組(zu)成,其(qi)工作原(yuan)理是(shi)將(jiang)需(xu)要打(da)標(biao)的(de)信息(xi)輸(shu)入計(ji)算機,計(ji)算機按(an)照事先設(she)計(ji)好的(de)程(cheng)序(xu)控制(zhi)激(ji)光器(qi)和X-Y掃(sao)描(miao)機(ji)構,使經過特(te)殊光學(xue)系統(tong)變(bian)換的(de)高(gao)能(neng)量(liang)激光點在被(bei)加(jia)工表面(mian)上掃(sao)描(miao)運動(dong),形(xing)成標(biao)記(ji)。
通(tong)常X-Y掃(sao)描(miao)機(ji)構有兩種(zhong)結構(gou)形(xing)式(shi):壹種(zhong)是機(ji)械(xie)掃(sao)描(miao)式(shi),另(ling)壹種(zhong)是振(zhen)鏡(jing)掃(sao)描(miao)式(shi)。
(1) 機械(xie)掃(sao)描(miao)式(shi)
機械(xie)掃(sao)描(miao)式(shi)打(da)標(biao)系統(tong)不(bu)是采(cai)用通(tong)過改(gai)變反(fan)射鏡的(de)旋(xuan)轉角(jiao)度(du)去(qu)移(yi)動(dong)光束(shu),而(er)是(shi)通(tong)過機(ji)械(xie)的(de)方(fang)法對反(fan)射鏡(jing)進行(xing)X-Y坐標(biao)的(de)平(ping)移(yi),從(cong)而改變激(ji)光束(shu)到(dao)達(da)工(gong)件(jian)的(de)位(wei)置,這種(zhong)打(da)標(biao)系統(tong)的(de)X-Y掃(sao)描(miao)機(ji)構通(tong)常是(shi)用繪(hui)圖(tu)儀改裝(zhuang)。其(qi)工作過程(cheng):激光束(shu)經過反(fan)光鏡(jing)①、②轉(zhuan)折(zhe)光路(lu)後(hou),再經過光筆(bi)(聚焦(jiao)透鏡(jing))③作用射到被(bei)加(jia)工工(gong)件(jian)上(shang)。其(qi)中繪(hui)圖(tu)儀筆(bi)臂(bi)④只能(neng)帶(dai)著(zhe)反(fan)光鏡(jing)①和②沿(yan)X軸方(fang)向(xiang)來(lai)回運動(dong);光筆(bi)③連同它(ta)上端(duan)的(de)反(fan)光鏡(jing)②(兩者(zhe)固定在(zai)壹(yi)起(qi))只(zhi)能(neng)沿(yan)Y軸方(fang)向(xiang)運動(dong)。在計(ji)算機的(de)控(kong)制(zhi)下(xia)(壹般(ban)通(tong)過並(bing)口輸出(chu)控(kong)制(zhi)信號(hao)),光筆(bi)在Y方(fang)向(xiang)上的(de)運動(dong)與(yu)筆(bi)臂(bi)在X方(fang)向(xiang)上的(de)運動(dong)合成,可使(shi)輸(shu)出(chu)激(ji)光到(dao)達(da)平(ping)面內任(ren)意點,從而(er)標(biao)刻出(chu)任(ren)意圖(tu)形(xing)和文(wen)字。
(2)振鏡(jing)掃(sao)描(miao)式(shi)
振鏡(jing)掃(sao)描(miao)式(shi)打(da)標(biao)系統(tong)主(zhu)要由激光器(qi)、XY偏轉(zhuan)鏡(jing)、聚(ju)焦(jiao)透鏡(jing)、計(ji)算機等構成。其(qi)工作原(yuan)理是(shi)將(jiang)激(ji)光束(shu)入(ru)射(she)到兩反(fan)射鏡(振(zhen)鏡)上(shang),用計(ji)算機控制(zhi)反(fan)射鏡的(de)反(fan)射角(jiao)度(du),這兩個反(fan)射(she)鏡(jing)可分別沿(yan)X、Y軸掃(sao)描(miao),從(cong)而達(da)到(dao)激光束(shu)的(de)偏轉(zhuan),使(shi)具(ju)有壹(yi)定功(gong)率密度的(de)激(ji)光聚(ju)焦(jiao)點在打(da)標(biao)材(cai)料(liao)上按(an)所需(xu)的(de)要求(qiu)運動(dong),從而(er)在材(cai)料(liao)表面(mian)上留(liu)下(xia)永(yong)久(jiu)的(de)標(biao)記(ji),聚焦(jiao)的(de)光斑(ban)可以(yi)是(shi)圓形(xing)或(huo)矩(ju)形(xing)。
在振(zhen)鏡打(da)標(biao)系統(tong)中,可以(yi)采(cai)用矢量圖(tu)形(xing)及(ji)文字,這種(zhong)方(fang)法采用了計(ji)算機中圖(tu)形(xing)軟(ruan)件(jian)對(dui)圖(tu)形(xing)的(de)處(chu)理方(fang)式,具有作圖(tu)效(xiao)率高,圖(tu)形(xing)精(jing)度好(hao),無(wu)失(shi)真等特點,極大的(de)提(ti)高了激(ji)光打(da)標(biao)的(de)質量和速(su)度。同時(shi)振(zhen)鏡式(shi)打(da)標(biao)也可采(cai)用點陣(zhen)式(shi)打(da)標(biao)方(fang)式,采用這種(zhong)方(fang)式對於在(zai)線打(da)標(biao)很(hen)適(shi)用,根(gen)據(ju)於不(bu)同速(su)度(du)的(de)生產(chan)線(xian)可以(yi)采(cai)用壹個掃(sao)描(miao)振(zhen)鏡或(huo)兩個掃(sao)描(miao)振(zhen)鏡,與(yu)前(qian)面所述的(de)陣(zhen)列(lie)式打(da)標(biao)相(xiang)比,可以(yi)標(biao)記(ji)更(geng)多的(de)點陣(zhen)信息(xi),對(dui)於標(biao)記(ji)漢字字符(fu)具有更(geng)大的(de)優。
振鏡(jing)掃(sao)描(miao)式(shi)打(da)標(biao)系統(tong)壹(yi)般(ban)使(shi)用連續(xu)光泵工作波長為(wei)1.06μm的(de)Nd:YAG激(ji)光器(qi),輸(shu)出(chu)功(gong)率為(wei)10~120W,激光輸(shu)出(chu)可以(yi)是(shi)連(lian)續(xu)的(de),也可以(yi)是(shi)Q開(kai)關調(tiao)制(zhi)的(de)。近年(nian)發(fa)展(zhan)的(de)射(she)頻激勵CO2激(ji)光器(qi),也被(bei)用於振(zhen)鏡掃(sao)描(miao)式(shi)激光打(da)標(biao)機。
振鏡(jing)掃(sao)描(miao)式(shi)打(da)標(biao)機因(yin)其(qi)應(ying)用範圍廣,可進行(xing)矢(shi)量(liang)打(da)標(biao)和點陣(zhen)打(da)標(biao),標(biao)記(ji)範圍可調(tiao),而(er)且具(ju)有響應(ying)速度(du)快(kuai)、打(da)標(biao)速度(du)高(gao)(每秒(miao)鐘可打(da)標(biao)幾(ji)百個字符(fu))、打(da)標(biao)質量較高、光路(lu)密封(feng)性能(neng)好(hao)、對環(huan)境(jing)適(shi)應(ying)性強等優勢(shi)已(yi)成為(wei)主(zhu)流(liu)產品,並被(bei)認(ren)為(wei)代表了未(wei)來(lai)激光打(da)標(biao)機的(de)發(fa)展(zhan)方(fang)向(xiang),具有廣闊的(de)應(ying)用前景。
目(mu)前(qian)用於打(da)標(biao)的(de)激(ji)光器(qi)主(zhu)要有Nd:YAG激(ji)光器(qi)和CO2激(ji)光器(qi)。Nd:YAG激(ji)光器(qi)產(chan)生的(de)激(ji)光能(neng)被(bei)金屬(shu)和絕(jue)大多(duo)數塑(su)料(liao)很(hen)好(hao)地(di)吸收(shou),而(er)且其(qi)波長短(為(wei)1.06μm),聚焦(jiao)的(de)光斑(ban)小,因而(er)最(zui)適(shi)合在(zai)金(jin)屬(shu)等材(cai)料(liao)上進行(xing)高(gao)清(qing)晰(xi)度的(de)標(biao)記(ji)。CO2激光器(qi)產(chan)生的(de)激(ji)光波長為(wei)10.6μm,木制(zhi)品、玻(bo)璃、聚合物(wu)和多(duo)數透明(ming)材(cai)料(liao)對其(qi)有很(hen)好(hao)的(de)吸收(shou)效(xiao)果,因而(er)特別(bie)適(shi)合在(zai)非(fei)金(jin)屬(shu)表面(mian)上進行(xing)標(biao)記(ji)。
Nd:YAG激光器(qi)和CO2激(ji)光器(qi)的(de)缺(que)點是對(dui)材(cai)料(liao)的(de)熱(re)損傷(shang)及熱(re)擴散比較嚴(yan)重,產(chan)生的(de)熱(re)邊(bian)效(xiao)應(ying)常會使標(biao)記(ji)模糊。相(xiang)比之(zhi)下(xia),由準分子激(ji)光器(qi)產(chan)生的(de)紫(zi)外(wai)光打(da)標(biao)時,不(bu)加(jia)熱(re)物質,只蒸發物(wu)質的(de)表面(mian),在表面(mian)組(zu)織產生光化學(xue)效(xiao)應(ying),而在(zai)物質表層(ceng)留(liu)下(xia)標(biao)記(ji)。所以(yi),用準分子激(ji)光打(da)標(biao)機時(shi),標(biao)記(ji)邊(bian)緣(yuan)十分清(qing)晰(xi)。由於材(cai)料(liao)對紫(zi)外(wai)光的(de)吸收(shou)大,激(ji)光對(dui)材(cai)料(liao)的(de)作用只發生在(zai)材(cai)料(liao)的(de)最(zui)表層(ceng),對材(cai)料(liao)幾(ji)乎沒(mei)有燒(shao)損(sun)現象,因此(ci)準分子激(ji)光器(qi)更(geng)適(shi)合於材(cai)料(liao)的(de)標(biao)記(ji)。
四.國(guo)內激(ji)光打(da)標(biao)機的(de)市(shi)場現狀(zhuang)
國(guo)家自(zi)“六(liu).五”計(ji)劃(hua)起(qi)支(zhi)持(chi)激光加(jia)工項(xiang)目(mu),“七(qi).五(wu)”末(mo)至(zhi)“八.五”初期(qi)開(kai)始出(chu)現激光加(jia)工系統(tong)的(de)專(zhuan)業生產(chan)企(qi)業(ye)。國(guo)產激(ji)光加(jia)工系統(tong)的(de)銷(xiao)售(shou)額從(cong)1991年(nian)的(de)1518萬(wan)元,增(zeng)至(zhi)2003年(nian)的(de)9.8億(yi)元,13年(nian)增(zeng)長64倍(bei)。激光打(da)標(biao)機是(shi)其(qi)中代表產(chan)品之壹(yi),其(qi)在激(ji)光加(jia)工設(she)備中的(de)比(bi)例(li)最(zui)高而(er)且正在逐年(nian)提(ti)高(gao)。
目(mu)前(qian),國(guo)內從(cong)事激光打(da)標(biao)機生產(chan)和銷(xiao)售(shou)的(de)企(qi)業(ye)大概(gai)有30多(duo)家,主(zhu)要分布在(zai)武漢、北(bei)京(jing)、深(shen)圳(zhen)、南(nan)京(jing)和廣州(zhou)等地。
通(tong)過各(ge)地光電(dian)子(zi)、激(ji)光行(xing)業(ye)協(xie)會和激(ji)光設(she)備(bei)生產(chan)企(qi)業(ye)對(dui)近三年(nian)多(duo)來(lai)全(quan)國(guo)激光行(xing)業(ye)激(ji)光設(she)備(bei)的(de)銷(xiao)售(shou)情(qing)況進行(xing)調(tiao)查(zha)、統(tong)計(ji)和分析(xi),2001年(nian)、2002年(nian)、2003年(nian)我(wo)國(guo)激光加(jia)工設(she)備銷(xiao)售(shou)統(tong)計(ji)與(yu)分析(xi)的(de)各(ge)類數(shu)據(ju)簡(jian)要歸納如下:
2001年(nian)我(wo)國(guo)激光加(jia)工產(chan)品市場(chang)銷(xiao)售(shou)總額為(wei)5.8億元;2002年(nian)為(wei)7.4億元;2003年(nian)銷(xiao)售(shou)額為(wei)9.8億元。其(qi)中激光打(da)標(biao)機的(de)銷(xiao)售(shou)額2001年(nian)為(wei)1.9億元,2002年(nian)為(wei)2.48億元,2003年(nian)為(wei)3.33億元,分別占當年(nian)激(ji)光加(jia)工銷(xiao)售(shou)總額的(de)32.7%、33.5%、34.0%。
在激(ji)光激(ji)光打(da)標(biao)機中,YAG激光打(da)標(biao)機2001年(nian)的(de)銷(xiao)售(shou)額為(wei)1.45億元,2002年(nian)為(wei)1.9億元,2003年(nian)為(wei)2.5億元;2001年(nian)YAG激(ji)光打(da)標(biao)機銷(xiao)售(shou)總量為(wei)864臺,2002年(nian)為(wei)1142臺,2003年(nian)達(da)1600臺。
從以(yi)上數(shu)據(ju),我(wo)們可以(yi)看(kan)出(chu):1. 激(ji)光打(da)標(biao)機的(de)銷(xiao)售(shou)額在(zai)逐年(nian)穩(wen)步(bu)提(ti)高,其(qi)在激(ji)光加(jia)工銷(xiao)售(shou)總額的(de)比(bi)例(li)也在(zai)不(bu)斷增(zeng)加(jia);2. YAG 激光打(da)標(biao)機在(zai)激(ji)光打(da)標(biao)機中占據(ju)著(zhe)絕(jue)對(dui)統(tong)治(zhi)地位(wei)。
五.國(guo)內激(ji)光打(da)標(biao)機的(de)發(fa)展(zhan)前(qian)景
激光打(da)標(biao)機是(shi)綜(zong)合了激(ji)光技(ji)術和計(ji)算機技(ji)術的(de)光、機(ji)電(dian)壹(yi)體(ti)化系統(tong),當今(jin)激(ji)光技(ji)術和計(ji)算機技(ji)術的(de)發(fa)展(zhan)為(wei)激光打(da)標(biao)技(ji)術的(de)發(fa)展(zhan)帶(dai)來(lai)了前(qian)所未(wei)有的(de)機(ji)遇(yu)和挑戰(zhan)。
目(mu)前(qian),在(zai)振(zhen)鏡(jing)式掃(sao)描(miao)激(ji)光打(da)標(biao)機中,硬(ying)件(jian)控(kong)制(zhi)電(dian)路(lu)都是(shi)基(ji)於計(ji)算機ISA總線或(huo)者PCI總線而(er)設(she)計(ji)的(de),必(bi)須安(an)裝在(zai)計(ji)算機主(zhu)板的(de)ISA總線或(huo)PCI總線擴展(zhan)槽(cao)中。這種(zhong)方(fang)式使得(de)1臺計(ji)算機控制(zhi)激(ji)光打(da)標(biao)機的(de)臺數受到了限(xian)制(zhi)(現在絕(jue)大部分情(qing)況是(shi)1臺計(ji)算機控制(zhi)1臺激光打(da)標(biao)機)。另(ling)外(wai),硬(ying)件(jian)安(an)裝(zhuang)於計(ji)算機主(zhu)板上,給整個系統(tong)的(de)穩(wen)定運行(xing)帶(dai)來(lai)影響,降(jiang)低了激(ji)光打(da)標(biao)機的(de)穩(wen)定性,同時(shi)也增(zeng)加(jia)了激(ji)光打(da)標(biao)機的(de)成本和體(ti)積。
USB的(de)出(chu)現和發(fa)展(zhan)使(shi)得(de)激(ji)光打(da)標(biao)機的(de)硬(ying)件(jian)控(kong)制(zhi)電(dian)路(lu)脫離(li)計(ji)算機ISA總線或(huo)者PCI總線成為(wei)可能(neng)。USB2.0的(de)傳輸(shu)速率可達(da)480Mbit/s,完全(quan)可以(yi)勝(sheng)任(ren)激光打(da)標(biao)機對(dui)數(shu)據(ju)傳輸(shu)速率的(de)要求(qiu),而且,它(ta)可以(yi)支(zhi)持(chi)1臺計(ji)算機同時(shi)連(lian)接127臺設備,這樣就(jiu)可以(yi)用1臺計(ji)算機同時(shi)控(kong)制(zhi)幾(ji)臺激光打(da)標(biao)機而(er)不(bu)必增加(jia)額外(wai)的(de)費(fei)用,而且激(ji)光打(da)標(biao)機也可以(yi)不(bu)帶(dai)計(ji)算機進行(xing)銷(xiao)售(shou),從而(er)降低了激(ji)光打(da)標(biao)機的(de)價(jia)格(ge)。
現在激(ji)光打(da)標(biao)機使(shi)用的(de)Nd:YAG激(ji)光器(qi)都(dou)是(shi)以(yi)氪燈或(huo)氙燈來(lai)泵浦的(de),其(qi)泵浦效(xiao)率很(hen)低,致(zhi)使激(ji)光器(qi)的(de)總效(xiao)率只能(neng)達(da)到(dao)2%~5%,這意味著(zhe)絕(jue)大部分所加(jia)於泵浦燈的(de)電(dian)功率都轉化為(wei)熱(re)量。因(yin)此(ci),這種(zhong)激光打(da)標(biao)機都(dou)配有龐(pang)大的(de)冷(leng)卻系統(tong),其(qi)體(ti)積可占整個系統(tong)體(ti)積的(de)40%。
近幾(ji)年(nian)出(chu)現的(de)半導體(ti)激光泵浦的(de)固(gu)體(ti)激光器(qi),其(qi)總體(ti)轉換(huan)效(xiao)率可達(da)20%以(yi)上,因而可以(yi)大大縮(suo)小激光器(qi)冷(leng)卻(que)系統(tong)的(de)體(ti)積,這(zhe)就為(wei)激光打(da)標(biao)機向(xiang)輕型(xing)化、小型化方(fang)向(xiang)發展(zhan)創(chuang)造(zao)了條(tiao)件(jian)。而(er)近年(nian)來(lai)出(chu)現的(de)大功(gong)率光纖激光器(qi),其(qi)散熱(re)性能(neng)好(hao)、轉換效(xiao)率高(是半導體(ti)激光泵浦的(de)固(gu)體(ti)激光器(qi)的(de)2倍(bei)以上(shang))、激光閾(yu)值(zhi)低、可調(tiao)諧範(fan)圍寬(kuan)、光束(shu)質量好、免維(wei)護(hu)和價(jia)格(ge)低廉、制(zhi)作靈活等顯著優勢(shi),更(geng)加(jia)促進了激(ji)光打(da)標(biao)向(xiang)輕型(xing)化、小型化方(fang)向(xiang)發展(zhan)。
激光打(da)標(biao)機目(mu)前(qian)在(zai)國(guo)內外(wai)工(gong)業上的(de)應(ying)用正被人(ren)們逐漸(jian)重視,各(ge)種(zhong)新型(xing)的(de)打(da)標(biao)系統(tong)層(ceng)出(chu)不(bu)窮(qiong),它(ta)以其(qi)獨(du)特(te)的(de)優點正在取代傳統(tong)的(de)標(biao)記(ji)方(fang)法,如:沖壓、印(yin)刷(shua)、化學(xue)腐(fu)蝕等,在各種(zhong)機械(xie)零部件(jian)、電(dian)子(zi)元器(qi)件(jian)、集成電(dian)路(lu)模塊、儀(yi)器(qi)、儀(yi)表、電(dian)機銘牌(pai)、工(gong)具甚(shen)至(zhi)食品包(bao)裝(zhuang)等物體(ti)表面(mian)上,標(biao)記(ji)出(chu)漢字、英文字符(fu)、數字、圖(tu)形(xing)等,從而在這(zhe)些領域(yu)取得了廣泛(fan)的(de)應(ying)用。國(guo)際上(shang)壹(yi)些發達(da)國(guo)家已(yi)將該(gai)技(ji)術作為(wei)工業(ye)加(jia)工的(de)工(gong)藝標(biao)準,我(wo)國(guo)也非(fei)常重(zhong)視這(zhe)壹(yi)技(ji)術,國(guo)家科(ke)委(wei)已(yi)將該(gai)技(ji)術列(lie)為(wei)“八五(wu)火炬(ju)計(ji)劃(hua)”進行(xing)研(yan)制(zhi)和推(tui)廣。現在它(ta)已(yi)經引(yin)起(qi)了國(guo)內越(yue)來(lai)越多(duo)生產(chan)廠(chang)家(jia)的(de)重(zhong)視,必(bi)將(jiang)會代替(ti)傳統(tong)的(de)標(biao)記(ji)工藝(yi),給(gei)產(chan)品生產(chan)註(zhu)入(ru)新的(de)活力。因此(ci),激光打(da)標(biao)機具(ju)有巨大的(de)發(fa)展(zhan)潛(qian)力和廣闊的(de)市(shi)場前景。