壹(yi)、激光(guang)鐳射(she)加工激光(guang)輸出光(guang)斑被遮擋(dang)

        即激光(guang)光(guang)束經過(guo)振(zhen)鏡(jing)及(ji)場(chang)鏡(jing)後(hou)光(guang)斑有缺(que),不(bu)行(xing)圓(yuan).激(ji)光(guang)鐳射(she)加工的(de)輸(shu)出(chu)面(mian)、固定夾具與(yu)振(zhen)鏡(jing)等未調(tiao)好,導致(zhi)激光(guang)經過(guo)振(zhen)鏡(jing)頭(tou)時(shi)部分光(guang)斑被遮擋(dang),經場(chang)鏡(jing)聚(ju)集(ji)後(hou)在(zai)倍(bei)頻片(pian)上(shang)所出現(xian)的(de)光(guang)斑為非(fei)圓形(xing),這(zhe)樣也(ye)有可(ke)能會導(dao)致(zhi)效(xiao)果(guo)不均勻.

        還有壹(yi)種狀況(kuang),即振(zhen)鏡(jing)偏(pian)轉(zhuan)鏡(jing)片(pian)有損害,當(dang)激光(guang)光(guang)束經過(guo)鏡(jing)片(pian)損害區(qu)域(yu)時(shi),無(wu)法很好地(di)反射(she)出去(qu).因(yin)而(er),激光(guang)束經過(guo)鏡(jing)片(pian)損害區(qu)域(yu)與(yu)鏡(jing)片(pian)無(wu)損害區(qu)域(yu)激(ji)光(guang)能量有不(bu)壹致(zhi),終究作用在(zai)資料(liao)上(shang)的(de)激(ji)光(guang)能量也(ye)不(bu)壹樣,然(ran)後(hou)使(shi)標(biao)刻(ke)效(xiao)果(guo)不均勻.

二(er)、選(xuan)用偏(pian)焦(jiao)標刻(ke)必定規模(mo)的(de)內容

        由於(yu)每(mei)壹(yi)個(ge)聚(ju)集(ji)鏡(jing)都(dou)有對(dui)應的(de)焦(jiao)深規(gui)模(mo),而(er)選(xuan)用違背(bei)焦(jiao)點(dian)的(de)辦(ban)法會簡單導致(zhi)大規(gui)模(mo)標(biao)刻(ke)圖(tu)畫時(shi),邊際處在(zai)焦(jiao)深臨(lin)界(jie)點(dian)或者(zhe)超(chao)出焦(jiao)深規(gui)模(mo),這(zhe)樣就(jiu)比(bi)較簡單造成效(xiao)果(guo)的(de)不(bu)均勻性.因而(er),偏(pian)焦(jiao)標刻(ke)的(de)方(fang)法須考慮(lv)激(ji)光(guang)能量的(de)問(wen)題(ti).

三、機(ji)臺水平未調(tiao)好

四、熱透(tou)鏡(jing)現(xian)象

        當(dang)激光(guang)鐳射(she)加工激光(guang)經過(guo)光(guang)學(xue)鏡(jing)片(pian)(折(zhe)射(she)、反射(she))時,會(hui)使(shi)鏡(jing)片(pian)發熱產(chan)生(sheng)細微(wei)的(de)形(xing)變(bian).這(zhe)種形(xing)變(bian)會使激(ji)光(guang)聚(ju)集(ji)焦(jiao)點(dian)上(shang)升,焦(jiao)距變(bian)短.若機(ji)臺固(gu)定,將距離(li)調(tiao)整(zheng)到(dao)焦(jiao)點(dian)處時,開(kai)激(ji)光(guang)壹段(duan)時間(jian)後(hou),會(hui)由(you)於(yu)熱透(tou)鏡(jing)現(xian)象而(er)使作用在(zai)資料(liao)上(shang)的(de)激(ji)光(guang)能量密(mi)度發生(sheng)變(bian)化(hua),然(ran)後(hou)導(dao)致(zhi)標刻(ke)效(xiao)果(guo)不均勻.