通常(chang),影響激(ji)光(guang)刻(ke)字(zi)機(ji)刻(ke)字(zi)速度(du)的主(zhu)要原(yuan)因之(zhi)壹是設備本身的主(zhu)要原(yuan)因,另壹個是加工(gong)工件(jian)的主(zhu)要原(yuan)因.

        壹、設備元(yuan)件(jian)主要有(you)激(ji)光(guang)頻率(lv)、激(ji)光(guang)點模(mo)式(shi)和(he)光(guang)束發(fa)散角、激(ji)光(guang)功率(lv)、合理的光(guang)學(xue)配(pei)比(bi)加工(gong). 客(ke)戶選擇(ze)激(ji)光(guang)刻(ke)字(zi)機(ji)時(shi),建(jian)議根據(ju)專業(ye)技(ji)術(shu)工程(cheng)師的意(yi)見(jian)選擇(ze)機(ji)型(xing). 有(you)銘(ming)牌(pai)刻(ke)印(yin)、機(ji)玻(bo)璃切割(ge)、雙色板(ban)刻(ke)印(yin)、水晶獎(jiang)杯刻(ke)印(yin)等.
        選擇(ze)激(ji)光(guang)設備我們(men)推(tui)薦華(hua)之(zhi)尊，專(zhuan)業(ye)售(shou)後(hou)為(wei)您(nin)保駕(jia)護航.

        二(er)、另壹個主要原(yuan)因是打(da)字時(shi)打(da)字密(mi)度(du)、打(da)字寬(kuan)度(du)、打(da)字深(shen)度(du)和激(ji)光(guang)光(guang)斑大小.

1 .打(da)印密(mi)度(du)存在(zai)問(wen)題(ti)

        相同寬(kuan)度(du)、相同光(guang)斑、相同深(shen)度(du)的情(qing)況下,目(mu)標(biao)的密(mi)度(du)越(yue)高(gao),對(dui)應(ying)的打(da)印速(su)度(du)越(yue)慢,密(mi)度(du)直(zhi)接(jie)增(zeng)加(jia)目標(biao)面積(ji).

2 .刻(ke)字(zi)寬(kuan)度(du)有問(wen)題(ti)

        寬(kuan)幅面的打(da)印速(su)度(du)比(bi)寬(kuan)幅面的打(da)印速(su)度(du)慢,寬(kuan)幅面的打(da)印電(dian)流(liu)鏡的偏轉面積(ji)變(bian)大(da).

3 .刻(ke)字(zi)深(shen)度(du)存在(zai)問(wen)題(ti)

        如(ru)果(guo)需(xu)要,可(ke)能(neng)需(xu)要調(tiao)整激(ji)光(guang)刻(ke)字(zi)機(ji)的參(can)數(shu),增加(jia)激(ji)光(guang)刻(ke)字(zi)機(ji)的功(gong)率(lv)和(he)電(dian)流(liu)等參(can)數(shu),從而影響刻(ke)印(yin)速度(du).

 

4 .激(ji)光(guang)光(guang)斑的大(da)小(xiao)有(you)問(wen)題(ti)

        光(guang)斑越(yue)大,刻(ke)字(zi)速度(du)越(yue)快.

        激(ji)光(guang)刻(ke)字(zi)機(ji)的上(shang)述因素(su)都(dou)是影響激(ji)光(guang)刻(ke)字(zi)速度(du)的主(zhu)要因素(su),使用(yong)激(ji)光(guang)刻(ke)字(zi)機(ji)時(shi)可(ke)以遵(zun)循(xun)這些(xie)規則(ze),合理(li)提高(gao)目(mu)標(biao)速(su)度(du),創造(zao)更高(gao)的經(jing)濟(ji)效(xiao)益(yi)!